Der Preis des Bundespräsidenten für Technik und Innovation – der Deutsche Zukunftspreis – geht in diesem Jahr an eine Innovation namens „EUV-Lithographie“. Entwickelt wurde dieses neuartige Verfahren zur Herstellung von Mikrochips am Forschungsstandort Jena. Verantwortlich dafür zeichnet ein Forscherteam des Fraunhofer-Instituts für Angewandte Optik und Feinmechanik (IOF) in Kooperation mit den Unternehmen Zeiss (Oberkochen) und Trumpf (Ditzingen). Der Preis wurde am 25. November von Bundespräsident Frank-Walter Steinmeier überreicht.

Wissenschaftschaftsminister Wolfgang Tiefensee gratulierte dem gesamten Entwicklerteam zum Gewinn des Preises und freute sich darüber, dass die Grundlage dieser zukunftsweisenden Entwicklung in Thüringen gelegt wurde. Der Preis signalisiere deutlich die ausgezeichnete wissenschaftlich Arbeit, die in Thüringen geleistet wird. Inzwischen erhält das Fraunhofer-IOF in Jena zum dritten Mal den deutschen Zukunftspreis.

Mittels EUV-Lithographie lassen sich mikroelektronische Bauteile herstellen, die nicht nur um ein Vielfaches kleiner, sondern auch energiesparender und wesentlich leistungsfähiger sind, als herkömmliche Mikrochips. Dadurch können Strukturen generiert werden, die nur wenige Nanometer groß sind und so die Integration von mehr als einer Milliarde Transistoren auf der Fläche einer Fingerkuppe möglich machen.

Das IOF in Jena wird vom Land seit 1992 in Rahmen seiner institutionellen Forschungs- und Projektförderung unterstützt.

Die Preisträger stellen sich vor: zum YouTube Video